কোন PVD পদ্ধতি ব্যবহার করতে?
Dec 29, 2017| সর্বাধিক প্রচলিত শারীরিক বাষ্প জমা (PVD) হল ম্যাগনেট্রন স্পুতারিং এবং বাষ্পীভবন, যা তাপ বা ইলেক্ট্রন মরীচি (ই-বীম) হতে পারে। কোন পদ্ধতি ব্যবহার করার সময় আপনি কিভাবে তা নির্ধারণ করবেন?
ম্যাগনেটোনার স্পুত্টারিং কি?
Sputter জমা উচ্চ গলনাঙ্ক সঙ্গে উপকরণ জন্য চমৎকার যে বিভাজিত করা যাবে না। Magnetron sputtering ভাল আনুগত্য সঙ্গে খুব ঘন ফিল্ম তৈরি একটি বহুমুখী উপায়। Magnetron sputtering একটি প্লাজমা ভিত্তিক লেপ পদ্ধতি যা একটি লক্ষ্য পৃষ্ঠের কাছাকাছি একটি চুম্বকীয় সীমিত প্লাজমা উত্পন্ন করে। তারপর, ধনাত্মক চার্জযুক্ত লক্ষ্যবস্তু উপাদান এবং লক্ষ্য থেকে পরমাণু দ্বারা রক্তরশ সংলগ্ন থেকে অনলস আয়নগুলি চার্জ করা হয় নির্গত বা "sputtered", যা তারপর একটি স্তর বা wafer নেভিগেশন জমা।
ম্যাগনেটোনার স্পুত্টারিং কেন ব্যবহার করুন:
● ফিল্ম পুরুত্বের চমৎকার নির্ভুলতা এবং ফিল্ম কোটিংয়ের ঘনত্ব - বাষ্পীভবনের তুলনায় ঘনত্বের কোটিং অর্জন
● নির্দিষ্ট অপটিক্যাল বা বৈদ্যুতিক বৈশিষ্ট্য সঙ্গে ধাতব বা অন্তরক কোটিং জন্য পারফেক্ট
● একাধিক Magnetron উত্স সঙ্গে কনফিগার করা যাবে
প্রতিক্রিয়াশীল থার্মাল বিকাশ কী?
প্রতিরোধী তাপ বাষ্পীভবন সম্ভবত PVD সহজতম ফর্ম। এটি সাধারণত একটি চেম্বারের মধ্যে একটি উত্স উপাদান বায়ুমণ্ডল একটি resistive তাপ উৎস ব্যবহার করে। বায়ুপ্রবাহিত উপাদান তাপীয় শক্তির মাধ্যমে চেম্বারে উঠে যায়, পরিণামে একটি পাতলা ফিল্ম দিয়ে একটি স্তর স্তর লেপন এই প্রক্রিয়া ধাতু বা nonmetals জন্য ব্যবহার করা যেতে পারে এবং বৈদ্যুতিক যোগাযোগের জন্য একটি ভাল পছন্দ।
কেন প্রতিরোধী থার্মাল বিকাশ ব্যবহার:
● নিম্ন গলে যাওয়া তাপমাত্রার সাথে ধাতুর পাতগুলি অথবা ননম্যাটাল তৈরির খরচ কার্যকর উপায়
● ওয়্যারার বন্ধনে ব্যবহৃত ইন্ডিমাম বাম জমা দেওয়ার জন্য ব্যবহার করা যেতে পারে
● sputtering তুলনায় উচ্চ দখলের হার
ই-বেম বিকাশ কি?
ই-বীম বাষ্পীভবন একটি তাপীয় বাষ্পীভবন প্রক্রিয়া যা তাপীয় বাষ্পীভবনের সাথে সম্ভাব্য উৎসের উৎসের বৃহত পরিমাণে সরাসরি হস্তান্তর করার অনুমতি দেয়। এটি উচ্চ গলে যাওয়া তাপমাত্রার যেমন, সোনার মতো পদার্থের পরিমাপের অনুমতি দেয়। এই পদ্ধতিতে, বাষ্পীভবন উপাদানটি একটি ক্রসবিলে বা জল-কুলযুক্ত তামা হাউন্ডে স্থাপিত হয়, যেখানে এটি একটি ইলেক্ট্রন মরীচি দ্বারা উত্তপ্ত হয়। তাপ উত্স উপাদান এর বাষ্পীভবনের কারণ, যা তারপর স্তর সম্মুখের আমানত
কেন ই ইফেক্ট বিকাশ ব্যবহার:
উচ্চতর গলনাঙ্কযুক্ত পয়েন্টগুলি যা তাপীয় বাষ্পীভবন সহ্য করতে পারে না এমন সামগ্রীগুলির বিভিন্ন ধরণের কাজ করে
● sputtering বা রাসায়নিক বাষ্প জমাকরণ (সিভিডি) তুলনায় ভাল পদক্ষেপ কভারেজ বিতরণ
● sputtering তুলনায় একটি উচ্চতর উপাদান ব্যবহার দক্ষতা এবং উচ্চ দমন হার প্রস্তাব
● একটি দ্বিতীয় আয়ন সহায়তা উৎসের সাথে সামঞ্জস্যপূর্ণ, যা প্রাক-পরিষ্কার বা আয়ন সহায়তাকারী জমা (আইএডি)
প্রতিটি আবেদন জন্য সঠিক পছন্দ যে কোন এক পদ্ধতি আছে। সমস্ত তিন ধরনের PVD তাদের নিজস্ব উপকারিতা প্রস্তাব এবং আপনার প্রয়োজনীয়তা উপর ভিত্তি করে নির্বাচিত করা উচিত।
