প্রস্তুতি এবং টাইটানিয়াম নাইট্র্রাইড (টিআইএন) ফিল্মের আবেদন
Jan 22, 2018| 1. টাইটানিয়াম নাইট্র্রাইড (টিআইএন) চলচ্চিত্রের প্রস্তুতি পদ্ধতি
1960 এর দশকের হিসাবে, টিআইএন পাতলা চলচ্চিত্রগুলির গবেষণা শুরু হয়েছে। যাইহোক, উপকরণ এবং ডিভাইসগুলির সমস্যাগুলির কারণে গবেষণা কাজ কম জোয়ারে পরিণত হয়। পরে, পাতলা চলচ্চিত্র প্রস্তুতি প্রযুক্তি উন্নতি সঙ্গে, TiN পাতলা চলচ্চিত্র গবেষণা প্রসারিত শুরু এবং প্রস্তুতি পদ্ধতি বৈচিত্রপূর্ণ হয়। বর্তমানে, একটি মহান অগ্রগতি হয়েছে।
শারীরিক বাষ্প ডিপোজিওশন (পিভিডির)
ইলেক্ট্রন বিম বপন পদ্ধতি
বর্তমানে, সবচেয়ে বেশি ব্যবহৃত ভ্যাকুয়াম লেপ পদ্ধতি হল ইলেক্ট্রন মরীচি বাষ্পীভবন । এটি একটি পদ্ধতি যা ইলেকট্রন মরীচি ব্যবহার করে বায়ুপ্রবাহিত বস্তুর স্রোতকে শক্তি স্থানান্তর করতে এবং তারপর উপাদানটি দ্রবীভূত করে বা বপন করে। ইলেক্ট্রন মরীচি বাষ্পীভবনে বড় শক্তি ঘনত্ব, উচ্চ তাপ দক্ষতা, কম তাপ চালনা এবং তাপ বিকিরণ ক্ষতি ইত্যাদি বৈশিষ্ট্য রয়েছে, যা ধারক উপাদান এবং কলাই উপাদান মধ্যে প্রতিক্রিয়া কমাতে পারেন। এছাড়াও, TiN আবরণ বিশুদ্ধতা ব্যাপকভাবে উন্নত করা যেতে পারে।
Sputter আবরণ পদ্ধতি
ম্যাগনেট্রন স্পিন্টারিং এর দুটি প্রধান পদ্ধতি আছে টিআইএন ফিল্মের: ডিসি ম্যাজেনট্রন স্পুত্টারিং এবং আরএফ ম্যাগনেট্রন স্পুতারিং (সিরামিক টিআইএন লক্ষ্যগুলির ব্যবহার)। সম্প্রতি, অ ভারসাম্য ম্যাগনেট্রন স্পুতারিং এবং রিঅ্যাক্টিভ স্পুতারিংকে এগিয়ে নিয়ে যায়। তাদের মধ্যে, প্রতিক্রিয়াশীল sputtering পদ্ধতি তার অনন্য সুবিধার কারণে টিআইএন চলচ্চিত্রের প্রস্তুতির জন্য সবচেয়ে বেশি ব্যবহৃত হয়। টিআইএন চলচ্চিত্রগুলির ম্যাগনেট্রন স্পুতারিং পদ্ধতিটি উচ্চ স্পুতরের হার, স্তরটির নিম্ন তাপমাত্রা বৃদ্ধি, ফিল্ম এবং স্তরবিন্যাসের ভাল বন্ধন শক্তি, স্থিতিশীল ডিভাইসের কার্যকারিতা, সুবিধাজনক অপারেশন এবং নিয়ন্ত্রণ প্রভৃতির সুবিধা রয়েছে। একই সময়ে এটিতে কিছু রয়েছে ভুলত্রুটি। উদাহরণস্বরূপ, বন্টন হার অপেক্ষাকৃত কম, দক্ষতা দরিদ্র, যা বন্টনের খরচ হ্রাসের জন্য প্রতিকূল। অতএব, magnetron sputtering পদ্ধতি শুধুমাত্র ক্ষেত্রগুলিতে প্রয়োগ করা হয় যা উচ্চ মানের TiN coatings যেমন অপটিক্স এবং মাইক্রো ইলেকট্রনিক্স প্রয়োজন
চাপ আয়ন প্লেটিং
1980 এর দশক থেকে আয়নটি টিইএন লেপটি সারা বিশ্বে একটি হাই- টেকিংয়ের মধ্যে বিকশিত হয়েছে, প্রধান অ্যাপ্লিকেশন হচ্ছে উচ্চ-গতির ইস্পাত এবং কারবাইড সরঞ্জামগুলিতে পরিধান-প্রতিরোধী লেপ তৈরি করা এবং সোনার-অনুকরণীয় আলংকারিক আবরণ স্টেইনলেস স্টীল পণ্য । আইওন কলাইয়ের প্রযুক্তিটি বিংশ শতাব্দীর 90-র দশকের বেশিরভাগ সময়ই বিস্তৃত হয়ে উঠেছে, সম্প্রতি সবচেয়ে ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত আয়ন পেষণ পদ্ধতি আইডি আর্ক আয়ন চিপানোর প্রযুক্তি (বহু-আর্ক আয়ন প্লেটিং নামেও পরিচিত), এটি অন্য সব ধরনের আয়ন প্লেটিং এবং শুধুমাত্র উত্পাদন প্রক্রিয়া টাইটানিয়াম নাইট্রেড আবরণ শিল্প হয়ে ওঠে চাপ আয়ন প্রলিপ্ত প্রক্রিয়ার সময়, লেপের গঠন এবং কার্যকারিতার উপর প্রভাব ফেলছে কারন বর্তমান, স্তরগত নেতিবাচক পক্ষপাত, স্তর স্তর, নাইট্রোজেনের আংশিক চাপ, গহ্বর চাপ ইত্যাদি।
2. টিআইএন কোটিং অ্যাপ্লিকেশন গবেষণা
যন্ত্র শিল্প
TiN ফিল্ম কাটিয়া প্রান্ত উপর উপাদান আনুগত্য কমাতে পারেন, কাটিয়া ক্ষমতা উন্নত, workpiece পৃষ্ঠ গুণমান উন্নত, এবং ডাবল কাটিয়া টুল সেবা জীবন এবং স্থায়িত্ব বৃদ্ধি। অতএব, TiN ফিল্ম ব্যাপকভাবে কম গতি কাটিয়া সরঞ্জাম, উচ্চ গতির ইস্পাত কাটিয়া, কাঠ কাটা সরঞ্জাম এবং ড্রিলস ব্যবহার করা হয়। উপরন্তু, টিআইএন এছাড়াও পোশাক অংশ জন্য একটি আদর্শ পরিধান-প্রতিরোধী লেপ, তার নিম্ন মেনে চলতে প্রবণতা সাহায্য যেমন মোটরগাড়ি ইঞ্জিনের পিস্টন প্যাকিং করুক, বিভিন্ন ধরণের bearings এবং গিয়ারস, ইত্যাদি হিসাবে অনেক পরিধান সিস্টেম অ্যাপ্লিকেশন প্রসারিত TiN আবরণ এছাড়াও ঢালাই সরঞ্জাম ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়, যেমন স্বয়ংচালিত শীট ধাতু গঠন সরঞ্জাম।
চিকিৎসা শিল্প
টিআইএন ফিল্ম হালকা ওজন, উচ্চ শক্তি এবং চমৎকার বায়োস্কোপলিবিলিটি সহ অ-বিষাক্ত কোটিং। অতএব, এটি একটি অত্যন্ত আদর্শ চিকিৎসা ধাতু উপাদান এবং এটি মানব দেহে রোপিত রোপণ এবং অস্ত্রোপচার যন্ত্র হিসাবে ব্যবহার করা যেতে পারে। উপরন্তু, টিআইএন চলচ্চিত্রগুলি অন্য চলচ্চিত্রের পুনর্বহাল করা চলচ্চিত্রের মতো ব্যবহার করা যেতে পারে যা ভাল বায়োস্কোম্যাটেবেল রয়েছে।
মহাকাশ
টিআইএন চলচ্চিত্রটি আইওএফ-এমএস ২2-তে এমওএস 2 লুব্রিকেন্টের পরিধান প্রতিরোধে উন্নত করতে পারে । টিআইএন চলচ্চিত্রটি উচ্চ কঠোরতা, উচ্চ গলে যাওয়া বিন্দু, উচ্চ পরিধান প্রতিরোধের, চমৎকার রাসায়নিক স্থায়িত্ব ইত্যাদির সুবিধা রয়েছে, তাই এটি বিমান ও মহাকাশযান ইঞ্জিন এবং অন্যান্য অংশগুলির তৈলাক্ত কর্মক্ষমতা উন্নত করতে IF-MS2 ব্যবহার করা যেতে পারে। একই সময়ে, এটি মহাকাশ উপাদান উচ্চ তাপমাত্রা এবং ঘর্ষণ কর্মক্ষমতা নিশ্চিত করতে পারেন।
সৌর শক্তি আবেদন ক্ষেত্রের
উচ্চ তাপমাত্রা বায়ুমন্ডল স্থিতিশীল সৌর শোষণ স্তর জন্য টিআইএন চলচ্চিত্রের গবেষণা 1984 সালে শুরু হয়, এবং সম্প্রতি (তি, আল) এন কোটিংস সৌর নির্বাচক শোষক স্তর এবং সৌর নিয়ন্ত্রণ জানালা জন্য আবেদন করার সুপারিশ করা হয়, যা প্রধানত কারণে উচ্চ তাপমাত্রা সহ্য করার ক্ষমতা (তি, এআই) এন আবরণ সৌর শক্তির TiN এবং TiAlN COATINGS প্রয়োগের জন্য এটি এখনও পরীক্ষামূলক এবং অনুসন্ধানের অধীনে।
