রাসায়নিক বাষ্প জমা (CVD)
Aug 15, 2022| রাসায়নিক বাষ্প জমা (CVD)
CVD প্রযুক্তি বায়বীয় যৌগ বা যৌগের মিশ্রণ ব্যবহার করে সাবস্ট্রেটের গরম করার পৃষ্ঠে রাসায়নিকভাবে বিক্রিয়া করে, যার ফলে সাবস্ট্রেটের উপরিভাগে একটি অভোলাটাইল আবরণ তৈরি হয়।
সুবিধা: সহজ অপারেশন, শক্তিশালী নমনীয়তা, একক বা যৌগিক ফিল্ম স্তর এবং ফিল্ম স্তর জন্য উপযুক্ত; ব্যাপক প্রযোজ্যতা; জমার হার উচ্চ উত্পাদন দক্ষতা সহ প্রতি মিনিটে কয়েক মাইক্রন থেকে কয়েকশ মাইক্রন পর্যন্ত পৌঁছাতে পারে। আবরণ জটিল আকৃতি ম্যাট্রিক্স জন্য উপযুক্ত; আবরণ ভাল compactness আছে.
অসুবিধা: উচ্চ জমা তাপমাত্রা, সাবস্ট্রেট পতনের কার্যকারিতা হতে সহজ; বিক্রিয়া গ্যাস এবং প্রতিক্রিয়া লেজ গ্যাসের নির্দিষ্ট জারা, দাহ্যতা এবং বিষাক্ততা থাকতে পারে; আবরণ খুবই পাতলা।
CVD পদ্ধতি প্রধানত দুটি দিক প্রয়োগ করা হয়:
1, আবরণ প্রস্তুত করুন, অক্সিডেশন প্রতিরোধের, পরিধান প্রতিরোধের, জারা প্রতিরোধের এবং উপকরণ বা অংশগুলির কিছু বৈদ্যুতিক, অপটিক্যাল এবং ট্রাইবোলজিক্যাল বৈশিষ্ট্যগুলিকে উন্নত বা উন্নত করতে উপকরণ বা অংশগুলির পৃষ্ঠের বৈশিষ্ট্যগুলিকে উন্নত এবং উন্নত করুন।
2. নতুন কাঠামোগত উপকরণ বিকাশ করুন। বর্তমানে, সুরক্ষামূলক ফিল্ম, মাইক্রোইলেক্ট্রনিক্স প্রযুক্তি, সৌর শক্তি ব্যবহার, অপটিক্যাল ফাইবার কমিউনিকেশন, সুপারকন্ডাক্টিং প্রযুক্তি, নতুন উপকরণ প্রস্তুত ইত্যাদির মতো অনেক দিকগুলিতে সিভিডি প্রযুক্তি ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়েছে।
উপরন্তু, পাউডার উপকরণ তৈরিতে, সিভিডি পাউডার প্রস্তুতির প্রক্রিয়ার প্রচারের জন্য দক্ষ এবং স্থিতিশীল অনুঘটকের ব্যবহার, বা নিম্ন তাপমাত্রা এবং উচ্চ শূন্যতার অবস্থার অধীনে পাউডার উপকরণ প্রস্তুত করার জন্য শারীরিক পদ্ধতির সাথে মিলিত হওয়াও ভবিষ্যতের উন্নয়নের দিক হয়ে উঠেছে। রাসায়নিক বাষ্প জমা প্রযুক্তি।
IKS PVD কোম্পানি, আলংকারিক আবরণ মেশিন, টুল লেপ মেশিন, DLC আবরণ মেশিন, অপটিক্যাল আবরণ মেশিন, PVD ভ্যাকুয়াম লেপ লাইন, টার্ন-কী প্রকল্প উপলব্ধ। এখন আমাদের সাথে যোগাযোগ করুন, ই-মেইল করুন:iks.pvd@foxmail.com