sputtering আবরণ প্রাথমিক নীতি
Apr 02, 2020| স্পটরিং লেপের মূল নীতি: আর্গন (আর) গ্যাসের ভ্যাকুয়াম অবস্থার অধীনে, আর্গন গ্যাসের গ্লো স্রাব, তারপরে আর্গন (আর) পরমাণুগুলিকে আর্গন আয়ন (আর্ট) এ আয়নিত করা হয়েছে, বৈদ্যুতিক ক্ষেত্র বলের ক্রিয়ায় আর্গন আয়ন, তীব্র বোমাবর্ষণ ধাতুপট্টাবৃত উপাদান দ্বারা তৈরি ক্যাথোড টার্গেট উপাদান, লক্ষ্য উপাদানটি sputtering এবং workpiece পৃষ্ঠে জমা করা হবে। স্পটারিং ফিল্মের ঘটনা আয়নগুলি সাধারণত l0-2pa ~ 10Pa এর পরিসরে গ্লো স্রাব দ্বারা প্রাপ্ত হয়, সুতরাং স্পটরিং কণাগুলি ম্যাট্রিক্সের দিকে ওঠার সময় ভ্যাকুয়াম চেম্বারে গ্যাসের অণুগুলির সাথে সংঘর্ষ করা সহজ, গতির দিকটি এলোমেলো করে তোলে making এবং জমা হওয়া ফিল্মটি অভিন্ন হওয়া সহজ।
আইকেএস পিভিডি টেকনোলজি (শেনিয়াং) কোং, লিমিটেড China চীন থেকে পিভিডি ভ্যাকুয়াম লেপ মেশিন প্রস্তুতকারক, আমাদের প্রধান পণ্য: আলংকারিক আবরণ মাহচিন, সরঞ্জাম আবরণ মেশিন, অপটিক্যাল লেপ মেশিন, পিভিডি লেপ লাইন। আরও বিশদ, যোগাযোগ: iks.pvd@foxmail। কম