পারমাণবিক স্তর রাসায়নিক বাষ্প জমা (ALCVD)
Nov 15, 2022| পারমাণবিক স্তর রাসায়নিক বাষ্প জমা (ALCVD)
ALD হল এমন একটি পদ্ধতি যেখানে একটি পদার্থকে একটি একক পারমাণবিক ফিল্মের আকারে স্তর দ্বারা স্তর স্তরে জমা করা যায়। পারমাণবিক স্তর জমা সাধারণ রাসায়নিক জমার অনুরূপ। কিন্তু পারমাণবিক স্তর জমার প্রক্রিয়ায়, নতুন পারমাণবিক ফিল্মের রাসায়নিক বিক্রিয়া সরাসরি পূর্ববর্তীটির সাথে সম্পর্কিত, এমনভাবে যে পরমাণুর একটিমাত্র স্তর এক সময়ে জমা হয়। পারমাণবিক স্তর রাসায়নিক বাষ্প জমা (CVD) এর স্ব-সীমাবদ্ধতা এবং পরিপূরকতার কারণে, এই কৌশলটির ফিল্মগুলির গঠন এবং বেধের উপর দুর্দান্ত নিয়ন্ত্রণ রয়েছে এবং প্রস্তুত ফিল্মগুলিতে ভাল সামঞ্জস্য, উচ্চ বিশুদ্ধতা এবং অভিন্নতা রয়েছে। ফিল্ম গঠনের প্রভাবক কারণগুলি নিম্নরূপ: (1) ALD প্রক্রিয়ায়, সাধারণত দুটি ভিন্ন জমা পর্যায় থাকে: প্রাথমিক জমা এবং পরবর্তী বৃদ্ধি। ফিল্মের বৃদ্ধির মোডগুলি হল যথাক্রমে দ্বীপের বৃদ্ধি এবং স্তর বৃদ্ধি, যার মধ্যে প্রাথমিক জমা পর্যায়টি ফিল্ম রূপবিদ্যার উপর একটি অ-নগণ্য প্রভাব ফেলে। (2) ফলাফলগুলি দেখায় যে ফিল্মের রুক্ষতা পূর্ববর্তী তাপমাত্রা, প্রতিক্রিয়া চেম্বারের ভ্যাকুয়াম ডিগ্রি, স্তরের তাপমাত্রা এবং অন্যান্য কারণগুলির দ্বারা প্রভাবিত হয়। সাবস্ট্রেট তাপমাত্রা প্রাথমিক জমার সময় এবং বৃদ্ধির হারের উপর সবচেয়ে উল্লেখযোগ্য প্রভাব ফেলে। টেম্পারেচার উইন্ডোতে, সাবস্ট্রেটের তাপমাত্রা যত কম হয়, ফিল্মটি যত ধীর হয়, প্রাথমিক জমার সময় তত বেশি হয় এবং পৃষ্ঠের রুক্ষতা বৃদ্ধি পায়। সাবস্ট্রেট তাপমাত্রা বৃদ্ধির সাথে, প্রাথমিক জমার প্রক্রিয়াটি সংক্ষিপ্ত হয় এবং ফিল্মটি দ্রুত বন্ধ হয়ে যায়। তাপমাত্রা যত বেশি হবে, বৃদ্ধির হার মনোমোলিকুলার চক্রের কাছাকাছি, এবং পৃষ্ঠের রুক্ষতা ছোট।
IKS PVD কোম্পানি, আলংকারিক আবরণ মেশিন, টুল লেপ মেশিন, DLC আবরণ মেশিন, অপটিক্যাল আবরণ মেশিন, PVD ভ্যাকুয়াম লেপ লাইন, টার্ন-কী প্রকল্প উপলব্ধ। এখন আমাদের সাথে যোগাযোগ করুন, ই-মেইল করুন:iks.pvd@foxmail.com